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真空ﾁｬﾝﾊﾞｰ 真空駆動

電子ﾋﾞｰﾑ装置 RHEED

ｲｵﾝﾋﾞｰﾑ装置 ｲｵﾝ源　ｼﾝｸﾛﾄﾛﾝ

成膜装置 ｾﾗﾐｯｸﾃﾞﾎﾟ ｽﾊﾟｯﾀ CVD

高温炉

中性子発生管 地雷探査

接合・ﾛｰ付 膜付加工

				ｾﾗﾐｯｸ成膜 ｽﾊﾟｯﾀ P-CVD
	真空装置

微粒子噴射式薄膜製造装置

−　用途　−　　主にセラミックの厚膜作成、例　静電チャック −　透明セラミック膜　−　　ﾊﾞﾙｸで不透明でも、ﾃﾞﾎﾟ条件により透明な絶縁膜ができます。 　微粒子や超微粒子をエアロゾル状にし、低真空中の基板にジェット噴射することにより薄膜を作成する 方法で、プロセス温度を飛躍的に低減でき、且つ高速で比較的厚い膜（10μｍ以上）の作成に有効な技術 です。

	産業技術総研所を中心に国家プロジェクトとして推進されています。 当社は装置のエンジニアリングで本プロジェクトの一翼を担っています。

成膜条件の一例 　　　　●　チャンバー内真空度：　　　50〜1×103　Pa 　　　　●　エアゾル室内圧力：　　　　1〜8×104　Pa 　　　　●　ノズル開口サイズ：　　　　5ｍｍ×0.3ｍｍ、10ｍｍ×0.4ｍｍ 　　　　●　搬送ガス種：　　　　　　　He、Ar 　　　　●　成膜時基板温度：　　　　　常温〜600℃ 　　　　●　ノズル−基板の相対速度：　0.125〜1.25ｍｍ／sec 　　　　●　ノズル−基板間の距離　：　1〜20ｍｍ 　　　　●　原料粒子の平均粒径　　：　0.05〜2μｍ 　　　薄膜特性 　　　　○　厚い成膜が可能：　1μｍ〜数十μｍ 　　　　○　成膜温度：　　　　常温〜600℃成膜 　　　　○　高速成膜：　　　　5ｍ�uを10〜30μｍ／min 　　　　○　強力な密着度：　　≫50Mpa 　　　　○　膜強度：　　　　　良好、理論強度の95％ 　　　　○　透明化：　　　　　搬送ガスにより透明化が可 　　　　○　パターニング：　　アスペクト比1以上

				ｾﾗﾐｯｸ成膜 ｽﾊﾟｯﾀ P-CVD
	真空装置

ｽﾊﾟｯﾀﾘﾝｸﾞ装置

	通常のｽﾊﾟｯﾀﾘﾝｸﾞやｱﾝﾊﾞﾗﾝｽﾄ型ﾏｸﾞﾈﾄﾛﾝ方式の他、ﾜｲﾄﾞｴﾛｰｼﾞｮﾝ型などもご相談に乗ります。 　　●　ﾉｰﾏﾙﾀｲﾌﾟ 　　●　ｱﾝﾊﾞﾗﾝｽﾄ型ﾏｸﾞﾈﾄﾛﾝ方式 　　●　ﾜｲﾄﾞｴﾛｰｼﾞｮﾝ型 　　●　反応性ｽﾊﾟｯﾀ 　　●　ﾊﾞｲｱｽｽﾊﾟｯﾀ
	光学膜　の高速ｽﾊﾟｯﾀ装置
	光学膜にも最近ｽﾊﾟｯﾀが使われだしていますが、装置が大型で巨費がかかっています。 　億単位の装置と同等の性能を出せる小型で、ﾊｲｽﾙｰﾌﾟｯﾄな装置のごく簡単なコンセプトを持ち、開発に時間をいただければ、他社にない装置をご提供できます。

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